삼성전자가 네덜란드의 ASML과 함께 차세대 반도체 기술 확보를 위한 협력을 강화합니다! 양사는 기존 6인치 포토마스크를 12인치로 확대하는 공동 개발에 참여하여, 공정 단계를 줄임으로써 생산성을 높이고 제조 비용을 낮출 계획이에요. 또한 2028년에는 D램 생산에 'High NA EUV' 장비를 도입하여 더욱 미세한 반도체를 구현하는 것을 목표로 하고 있습니다. 이번 협력을 통해 삼성전자는 'Next AI' 시대를 선도할 첨단 반도체 제조 리더십을 더욱 공고히 할 것으로 기대됩니다.